雙面拋光機設備主要技術性能

时间：2020-01-30 作者：m.b58wq.cn【原创】阅读

雙面拋光機設備應用范圍

雙面拋光機設備主要適用于硅片、石英晶片、光學晶體、玻璃、寶石、鈮酸鋰、砷化鎵、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。

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雙面拋光機主要特點

1、平面研磨機采用四動拋光原理；二電機分別拖動上下拋盤、太陽輪、內齒圈；雙面拋光機的PLC調整設定控制；彩色NT顯示的人機界面系統；

2、雙面拋光機的龍門箱形結構，配置大功率減速系統，軟啟動、軟停止，運轉平穩，拋光時間根據計時器可隨意設定，雙面拋光機采用了自動供給拋光液裝置；

雙面拋光機主要特點

3、拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進行了特殊處理；

4、雙面拋光機通過精密稱重傳感器與高精密的氣動控制系統聯合實現了壓力閉環反饋控制，確保了工件壓力的準確性；

5、雙面拋光機主要采用了強制集中潤滑；

6、雙面拋光機的拋光液系統具有獨立攪拌、循環水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測功能，各功能可選配制做。

雙面拋光機技術參數

1、拋光拖動電機：5.5KW 380V 1440rpm；

2、太陽輪拖動電機：2.2KW 380V 1440rpm；

3、上拋盤規格：φ630mm×φ240mm×30mm；

4、下拋盤規格：φ630mm×φ240mm×30mm；

5、游輪參數：公制Z=114 M=2；

6、游輪數量：5片；

雙面拋光機技術參數

7、最小拋光厚度：0.4mm/φ75mm；

8、最大拋光厚度：100mm；

9、下拋盤轉速范圍：0—50rpm；

10、需配備空氣源壓力：0.5—0.6Mpa；

11、下拋盤的端面跳動量：≤0.04mm；

12、下拋盤的平面度：0.015 mm；

13、雙面拋光機設備外形尺寸：（長×寬×高）1400mm×1200mm×2400mm；

14、雙面拋光機重量：約2800kg；

15、雙面拋光機承片量：單盤：4片/φ75 mm、3片/φ100 mm

5盤：20片/φ75 mm、15片/φ100 mm。

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