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平面拋光研磨機(jī)械設(shè)備的工作原理有哪些时间：2025-05-06 作者：數(shù)控雙面研磨機(jī)【原创】 阅读 平面拋光研磨機(jī)械設(shè)備的工作原理，依據(jù)設(shè)備結(jié)構(gòu)和應(yīng)用工藝的不同，主要可歸納為以下幾種類型，每種原理適用于不同精度和表面處理要求的平面工件（如金屬、陶瓷、玻璃、晶圓、塑料等）：
一、雙面研磨拋光原理 平面拋光研磨機(jī)械工作原理： 工件夾持在上下兩個(gè)磨盤之間，通過 上下盤反向旋轉(zhuǎn) 實(shí)現(xiàn)均勻磨削或拋光； 工件在行星齒輪系統(tǒng)或游星輪中運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)+公轉(zhuǎn)，提高平整度和效率； 通常配合使用研磨液或拋光液（含磨粒）。
平面拋光研磨機(jī)械特點(diǎn)： 精度高（可達(dá)μm級甚至nm級）； 適用于金屬、陶瓷、硅片、玻璃等高精度要求工件； 適合高平面度 + 高平行度控制。 二、單面拋光/研磨原理 工作原理： 工件放置于一個(gè)旋轉(zhuǎn)工作盤上，頂部有拋光頭/壓塊施壓； 利用拋光墊或研磨盤，加壓+旋轉(zhuǎn)對工件進(jìn)行單面處理； 拋光液/研磨液持續(xù)注入。
平面拋光研磨機(jī)械特點(diǎn)： 操作簡單，適合大尺寸或單面要求高的工件； 適用于平板玻璃、鏡片、壓電陶瓷等； 拋光效果受工件重心和分布影響較大。 |
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