平面拋光研磨機械設備的工作原理有哪些
作者：
數控雙面研磨機
【
原创
】
2025-05-06
平面拋光研磨機械設備的工作原理，依據設備結構和應用工藝的不同，主要可歸納為以下幾種類型，每種原理適用于不同精度和表面處理要求的平面工件（如金屬、陶瓷、玻璃、晶圓、塑料等）：
一、雙面研磨拋光原理
平面拋光研磨機械工作原理：
工件夾持在上下兩個磨盤之間，通過 上下盤反向旋轉 實現均勻磨削或拋光；
工件在行星齒輪系統或游星輪中運行，實現自轉+公轉，提高平整度和效率；
通常配合使用研磨液或拋光液（含磨粒）。
平面拋光研磨機械特點：
精度高（可達μm級甚至nm級）；
適用于金屬、陶瓷、硅片、玻璃等高精度要求工件；
適合高平面度 + 高平行度控制。
二、單面拋光/研磨原理
工作原理：
工件放置于一個旋轉工作盤上，頂部有拋光頭/壓塊施壓；
利用拋光墊或研磨盤，加壓+旋轉對工件進行單面處理；
拋光液/研磨液持續注入。
平面拋光研磨機械特點：
操作簡單，適合大尺寸或單面要求高的工件；
適用于平板玻璃、鏡片、壓電陶瓷等；
拋光效果受工件重心和分布影響較大。
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